情况，在精密的机器中加水构建浸润环境，既要考虑实际性能，又要担心污染，如果在这种“替代方案”花费精力，耽误了光源的研究，就有可能被对手反超。
    因为林本健的这个想法太过简单或者说太过理想化，而且等于否定了其它巨头正在走的技术路线，遭到了各大半导体巨头的集体拒绝，而且一度给台积电施压制止林本健到处乱窜搅局。
    当时在光刻机领域市场份额较小的荷兰厂家阿斯麦知道这个事情后，决定赌一把，因为这时候在市场里本来也无法和尼康等巨头竞争，他们押注沉浸式技术有可能实现以小博大。
    于是林本健和阿斯麦双方一拍即合，双方合作仅用一年多的时间，也就是在2004年，阿斯麦就做出了第一台样机。
    而林本健随后又说服了台积电使用这个方案，并完成了产品生产，让台积电在芯片制程技术上一举追上了之前遥遥领先的巨头英特尔。
    台积电成功批量生产证明了浸入式技术的工艺可能性，而且浸入式属于小改进大效果，产品成熟度非常高，随后英特尔、ibm等公司纷纷决定跟进，购买阿斯麦的光刻机。
    而尼康虽然随后也宣布自己的157nm产品样机完成，但是因为整个的技术并不是非常成熟，良品率还无法
 <本章未完请点击"下一页"继续观看!>