高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在十几纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有售价7000万美金的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

    国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），RBNikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和RB三大品牌为主。生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYbsp;NXQ4006、以及中国品牌。

    设计手机芯片或者电脑芯片，需要使用的光刻机，精度必须是在10纳米左右。

    然而，我国目前能够利用的（不是拥有），最高精度只有28纳米。

    AMD的CPU曾经被intel压制多年，就是因为AMD的女朋友（GF工厂）不给力啊！万年不变的都是28纳米制造工艺。

    结果去年，AMD成功的将精度提高到了14纳米，一下子就打了一个翻身仗。

    华为想要设计自己的手机芯片。但是没有先进的光刻机。

    小米
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