同样，知道自己不懂，也不乱指挥人。
    这样大方明理又能放权的老板，可比以前那些外行指挥内行的领导要强太多了。
    “我知道光刻机的涂胶原理其实跟相机胶片暴光差不多，最近我也一直在恶补这方面的知识。
    我知道像光刻机的生产效率、良率以及最小分辨率均在不断发展。
    而光刻机的最小分辨率由一个公式 R=kλ/NA控制。
    其中R代表可分辨的最小尺寸也就是我们追求的精度，那么肯定就是R越小越好，k是工艺常数代表我们的工艺技术,λ.....λ...。
    λ是什么来着？”
    说到这里，李秀成像是卡了壳，挠着腮帮子说道。
    周宏一脸好为人师的表情笑道：“λ是光刻机所用光源的波长，我们现在研究的就是G线光刻机，波长346NM。
    NA代表物镜数值孔径这个东西也就是关键的暴光系统。
    这也是最难的东西，我们现在造的都是落后别人十年的参数产品。
    反正，光刻机制程工艺水平的发展是一直遵循你说这个公式的。
    现在米国的最新型光刻机已经可以生产800NM制程的芯片，我们却还在1200nm徘徊，
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