还差得远啰！”
    说到最后，周宏反而一脸失落，也没了开始的兴致。
    “哦，真复杂！”李秀成做出一脸我很懵的表情，然后话锋一转道：“但我大致抓到了两个重点，光源、物镜折射率！
    想要提升芯片的生产效率和良率，是必须要同时发展光刻机的内部构造和工作模式。
    那么我们可以从整体因素考虑，为什么不换一种光源，然后再换一种折射介质？”
    “嗯？”周宏回过神来，有些奇怪的说道：“现在光线就G线和I线两种，波长在三百多到四百左右，确实比较大，而且国际上的公同认知是在193nm缩短到157nm制程时会出现瓶颈。
    但折射介质是什么说法？”
    见周宏来了兴趣，李秀成嘴角微勾然后迅速恢复原状。
    这也就是现在的干式微影光刻机和浸没式光刻机的最大区别了！
    他故意做出一脸不确定的说道：“光线我觉得可以多做试验，把什么XYZ射线啊，紫外线，极光都试试，总能找到最合适的。
    至于折射率嘛，现在的光刻机光波是在空气中传播，然后照射暴光。
    但我们读书时不是有个知识点，是光进入不同的介质波长会有所改变嘛？
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